另外,当湿度过高时,粘在硅芯片表面的灰尘会被化学吸附在表面,难以清理。相对湿度越高,去除附着越困难。而当相对湿度低于30%时,由于静电力的作用,颗粒容易吸附在表面,大量半导体器件容易击穿。
净化工程压力调节
对于大多数洁净空间来说,要保持内压(静压)高于外压(静压),以防止外部污染的侵入。压差一般应按照以下原则维持:
对于紊流洁净室,由于主要依靠空气的稀释作用来降低室内污染程度,所以主要采用换气次数的概念,而不是直接采用速度的概念,但对室内空气流动的速度也有以下要求;
1.送风口出口处的气流速度不宜过大。与简单空调房相比,速度衰减更快,扩散角更大。
2.吹过水平面的气流速度(如车损时的回流速度)不宜过大,以免将表面颗粒吹回气流中,造成二次污染,此速度不宜干燥0.2m/s。
对于平流洁净室俗称层流洁净室,因为它主要靠“活塞挤压作用的气流来排除污染”,所以截面上的速度是一个非常重要的指标。以往全部参考美国20gB标准,采用0.45m/s。但人们也明白,这样大的风速所需要的通风非常大,为了节约能源,也都在探索降低风速的可行性。
障碍物会使单向流变成湍流,从而在障碍物周围形成气团。 人类的运动也会使单向流动产生湍流。在这些湍流中,由于风速较低,空气的稀释程度较低,导致污染浓度较高。因此,净化工程风速必须保持在0.3m/s~0.5m/s(60ft/min~100ft/min)的范围内,以便中断的单向流能够迅速恢复,并充分稀释障碍物周围湍流区的污染。单向流可以用风速来正确表示,因为风速越高,房间越干净。而每小时换空气的次数与房间的容积有关,比如吊顶的高度,所以不适合单向流动。单向室的空气体积是紊流室的许多倍(10到100倍)。
以上信息由专业从事标准工作台的雨诺净化于2024/4/25 12:08:34发布
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